CKD Technology har ikke kun helt nye maskiner på lager, tilgængelige med det samme.
Vi har også en detaljeret udlejningsvirksomhed, klar til at betjene dine specifikke produktionsbehov, samtidig med at du reducerer din oprindelige investering markant. Kontakt os for flere detaljer.
CKD har et team af professionelle ingeniører, klar til at levere nøglefærdig service.
For handel med brugte maskiner, kontakt os venligst via Whatspp eller e-mail.
------------------------------------------------------------------------------------
MYS10SD er et fuldt automatiseret, in-line plasmabehandlingssystem udviklet til applikationer i sektorer som Mini LED, elektronik, SMT, optoelektronik og medicinsk teknologi.
• Atmosfærisk tryk argon bredareal plasmasystem
• 100 mm bred in-line batch plasmabehandling; tilbyder 2-5 gange højere effektivitet og over 30 % lavere driftsomkostninger sammenlignet med traditionelle metoder
• Produktets overfladetemperatur forbliver under 45°C under forarbejdning
• Øjeblikkelig opstart uden behov for opvarmningstid, hvilket sparer produktionstid
• I stand til at behandle en bred vifte af produkter; understøtter fleksibel skift mellem plasmahoveder af forskellige størrelser
• Meget fleksibel, kompatibel og omkostningseffektiv plasmaplatform
• I stand til målrettet rengøring på specifikke produktområder
| Grundlæggende specifikationer | MYS10SD |
| Strømkrav | AC 200~240V, 3,2kW, 15A, 50Hz |
| Krav til lufttryk | 90psi (6bar) |
| Dimensioner | 990*1300*1800mm |
| Vægt | 680 kg |
| Certificeringsstandarder | CE |
| Positioneringsnøjagtighed | XYZ: ±50 µm @ 3σ |
| XYZ-akse repeterbarhed | XYZ: ±25 µm @ 3σ |
| Maksimal hastighed | 600 mm/s (XY) |
| Acceleration | 0,6 g |
| Drive System | AC servo |
| Arbejdsplatform specifikationer | |
| Transportør Type | Bælte |
| Transportbånds belastningskapacitet | 3 kg |
| Substrattykkelsesområde (uden bærer) | |
| 0,5-10 mm | |
| Z-akse vandring | 60 mm |
| Maks. komponenthøjde (øverste side) | 100 mm |
| Maks. komponenthøjde (underside) | 100 mm |
| Kommunikationsprotokol | SMEMA |
| Arbejdsområde | |
| Plasmabehandlingsområde (B × D) | 475–480 mm |
| Post-treatment kontaktvinkel (WCA) | WCA < 10° (silicium wafer) WCA < 20° (ikke-metallisk) |
| Plasmabehandlingsmetode | Ar+O2-proces til fjernelse af organisk forurening |
| Krav til plasmasystem | |
| RF strøm | 250 W ved 13,56 MHz |
| Hovedplasmagas | Argon |
| Procesgas | O2 |
| Gasforsyningstrykområde | 40–120 psi (0,3–0,8 MPa) |
Adresse
5. sal, bygning 2, nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, Guangdong-provinsen, Kina.
Tlf
